Mitutoyo三豐M Plan Apo 1×物鏡378-800-3

明視場(chǎng)用物鏡
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

Mitutoyo三豐物鏡 紫外、近紫外、可視、近紅外

Mitutoyo三豐顯微鏡單元
日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導(dǎo)體、電子、液晶相關(guān)等產(chǎn)品的生產(chǎn)
品質(zhì)管理系統(tǒng)、實(shí)驗(yàn)研究裝置使用的光學(xué)系統(tǒng)
外觀檢查系統(tǒng)的嵌入式光學(xué)單元
微生物等運(yùn)動(dòng)物體的觀察 等
可安裝數(shù)碼相機(jī)，通過(guò)外部顯示器進(jìn)行觀察和拍攝。
可實(shí)現(xiàn)橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡(jiǎn)易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學(xué)系統(tǒng)
★以觀察和分析細(xì)胞、微生物等為目的的光學(xué)系統(tǒng)

M Plan Apo NIR系列等支持紅外區(qū)的物鏡組合，可在紅外線下實(shí)
現(xiàn)可見光下做不到的非破壞性檢查。
★液晶薄膜、硅基板等的厚度測(cè)量
★MEMS內(nèi)部的非破壞評(píng)價(jià)、三維安裝評(píng)價(jià)
★半導(dǎo)體封裝(IC)的內(nèi)部觀察、晶圓鍵合空洞評(píng)價(jià)傳感器
★紅外分光特性分析

 ·無(wú)限遠(yuǎn)校正
·明視場(chǎng)觀察用
·長(zhǎng)工作距離
·平場(chǎng)復(fù)消色差規(guī)格

 上述規(guī)格欄中的分辨力和物鏡單體焦深是根據(jù)基準(zhǔn)波長(zhǎng)(λ＝0.55μm)計(jì)算得出的值。
※1 觀察反射率較低的檢測(cè)對(duì)象時(shí)，建議搭配使用與所用顯微鏡相對(duì)應(yīng)的偏光裝置。
※2 觀察反射率較低的檢測(cè)對(duì)象時(shí)，建議搭配使用M Plan Apo 2 × 1/4波長(zhǎng)板(No.02ALN370)和偏光裝置。注)工作距離會(huì)縮短4mm。
※3 安裝物鏡單體時(shí)的規(guī)格(根據(jù)顯微鏡的不同，有可能不符合標(biāo)注規(guī)格)。
在垂直反射照明下單獨(dú)使用時(shí)，請(qǐng)使物鏡的入射照明光通量達(dá)到16.8mm(物鏡瞳徑)以上

 緊湊、輕巧的相機(jī)觀察顯微鏡
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運(yùn)動(dòng)物體等各種觀察對(duì)象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細(xì)加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統(tǒng)的綜合性能和安全性。
半導(dǎo)體電路的切割、修整、修正、打標(biāo)、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(fù)(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學(xué)系統(tǒng)※
硅類的內(nèi)部觀察、紅外光譜特征分析等。※另需紅外光源和紅外攝像機(jī)等。
·反射照明光學(xué)系統(tǒng)標(biāo)配帶孔徑光闌遠(yuǎn)心照明
需要均勻照明的圖像處理。可用于尺寸測(cè)量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強(qiáng)化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產(chǎn)品相比)
·除標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格外，還可按照需求設(shè)計(jì)制作雙相機(jī)、雙倍率(低倍率、高倍率)等產(chǎn)品